俄罗斯传出了新消息，光刻机的巨头ASML，再见？

关于俄的发展，从三月份开始，人们就一直在谈论，尤其是关于俄罗斯的经济发展。

自三月份以来，许多美公司出于某些众所周知的理由，纷纷停止对俄的营销和技术服务供应，部分非美国本土公司因为技术问题被迫撤出俄市场。

英特尔，微软，英伟达，甲骨文，高通，索尼，爱立信，诺基亚。

俄芯片市场全线断货

不过，对俄地区影响最大的还是ASML，它是光刻器件的巨人。ASML公司是世界上唯一一家生产EUV微影设备的厂商，他们的产品都是靠着ASML公司的。

由于ASML公司停止向俄提供光刻设备，俄的芯片市场已经濒临崩溃。俄大部分的芯片都是从国外进口的，进口量超过了95%，在微电子方面，他们的技术还不如其他国家。

美国本土最大的晶片生产商Mikron现在已是入不敷出，而另外一位晶片生产商安格斯特雷姆-T更是一度倒闭。而其它芯片制造商MCST、BaikalElectronics等公司则是在“实体清单”中来来回回地跑来跑去。

BaikalElectronics是俄区域最顶尖的芯片设计公司，最初采用MIPS技术，后来又转而采用ARM架构，至28nm制程。前段时间还集成了一个自主研发的RISC-V开放源代码协同处理器。

但是在前段时间一次“实体清单”中，BaikalElectronic的母公司T-Platforms也被列入名单，而台积电也不能再为俄本土的芯片企业制造芯片了。

禁令一出，首先受到影响的自然是BaikalElectronics，因为BaikalElectronics公司的芯片都是台积代工的。

安格斯特雷姆T是一家和Mikron公司一样古老的芯片制造商，由于资金短缺，在年由于资金短缺而陷入财政危机。不过，这是不可能的。

MCST的Elbrus系列的两条生产线，都是台积电生产的，虽然他们的芯片制造技术已经达到了16nm，但也不是万能的，台积电不能生产，MCST也不可能做到这一点。

俄地区开始自主研发光刻器件，以拯救濒临绝境的芯片市场。

据俄罗斯媒体前段时间报道，俄在光刻机上的研发经费将是6亿7千万卢布。现在，俄罗斯莫斯科的MIET公司已经接手了该计划。

俄罗斯方面表示，这台光刻机，将会和ASML的EUV光刻机进行比较，甚至在EUV光刻机上，都要更胜一筹。

但是，新的光刻机和EUV光刻机的制造原理是完全不同的。ASML的EUV光刻机是以超紫外线为基础，以13.5nm为基础，俄国正在研制的非掩模X射线光刻机，采用的是等离子光源，或者是同步加速技术。

X光的波长为0.01-10纳米，从波长上来说，的确是要优于EUV。根据光刻仪器的发展历史，EUV光刻机的精确度要高于DUV光刻机，最重要的一个因素就是它的波长要比深紫外线光刻机更短，更准确。

从波长上来说，它的性能甚至可以和EUV光刻机相媲美。而且使用X射线技术可以直接刻印，而不需要光掩模板，这可以节省大量的资金。

俄能生产X光光刻机吗

当俄地区宣布要研发自己的光刻机时，不少人都不敢相信，甚至还嘲笑俄制造不出这样的东西。

不是说半导体行业落后，就是技术落后。俄人在X光和等离子领域都有很深的研究经验。俄的无掩膜微影技术在年曾与ASML相提并论。

早在ASML首批量产EUV光刻机问世的时候，俄物理研究所IPM（RAS）就已经开始着手研制EUV光刻器件的体系和组件。在ASML的光刻机上，开发者们所提出的最初的辐射源解决方案也被运用到了ASML的光刻机上。

MIET的研究方向是奈米电子元件，涵盖了微机电系统，纳机电系统，X光装置。而这一切，都与光刻机的生产工艺有着千丝万缕的关系，所以MIET才会接受这样的工程。

更何况X射线光刻技术也不是前段时间才出现的，无论是欧美，还是我国的科研单位，都曾经进行过类似的实验，但X射线微影仪也只是局限于某些场合，并不能大规模生产。

由于X射线具有很强的穿透能力，因此不能进行投射光刻。目前，这种方法只适用于直写光刻，而直写光刻则是利用激光来一次又一次地雕刻电路，但这种方法的效率并不高，无法刻写出纳米集成电路。

因此这项技术以前并没有得到很好的发展。从目前的情况来看，俄人目前最大的问题就是X光技术和提高生产效率。

根据规划，MIET在11月份将会完成对光刻技术和模组的研制，并要求在28nm以上的制程。

总之，俄罗斯完全有能力制造X射线光刻机。要是真能生产出高质量的高制程光刻机，那ASML在光刻领域的垄断地位，也就不复存在了。

你们认为，俄罗斯能不能在光刻机上，突破ASML的垄断？欢迎大家分享你的观点。