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设备简介

型号：

日立HITACHISU

技术特点

优秀的低加速电压成像能力，1kv分辨率可达1.3nm日立专利的ExB设计，不需喷镀，可以直接观测不导电样品Upper探头可选择接受二次电子像或背散射电子像可以根据样品类型和观测要求选择打开或关闭减速功能标配有冷指、电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能仪器的烘烤维护及烘烤后的透镜机械对中均可由用户自行完成

性能参数

电子枪：冷阴极场发射电子源

放大倍率：20~倍（低倍模式），~倍（高倍模式）

加速电压：0.1~30kV（0.1kV/步，可变）

二次电子分辨率：1.0nm（15kV），1.3nm（1kV，减速模式），2.0nm（1kV，普通模式）

信号选择：二次电子模式和背散射模式

样品台X:0~50mmY:0~50mmZ:1.5~30mmT:-5~+70°R:°

能谱仪：有效晶体活区面积：30mm2；分辨率优于eV；检测元素范围：Be(4)-Pu(94)

镀金机：镀金、镀碳双系统；能容纳样品尺寸φ60*20（mm）

功能范围

能得到二次电子像和背散射电子像能谱仪具有点、线、面分析功能，能得到相关的元素谱图和Mapping图配备真空转移装置，可在不接触空气的环境中更换样品

中心测试实例

二次电子像与背散射电子像对比

高分辨低电压二次电子像-电池隔膜

面分布Mapping图像

冷场发射扫描电子显微镜下观察到的蚂蚁

测试相关

设备管理员：

潘老师pan.yanfang

sz.tsinghua.edu.cn

设备

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