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从去年开始缺芯潮就开始肆虐，目前来看，虽然全球代工企业都加大了产能，但由于智能领域的不断拓宽，缺芯的程度不但没有丝毫缓解，缺口反而更加厉害，有一百多个行业正在遭受缺芯影响，个别行业因为芯片供应不上而被迫停滞。

虽然现在缺芯最为严重的是汽车，家电等传统工艺芯片，但是这些领域毕竟技术成熟，只要假以时日必定能够彻底解决。对于国内来说，最为揪心的就是10nm以下的高端芯片，受到美国的制约，华为的手机基本处于停摆的状态，而国内的手机厂商虽然能够继续，但芯片业务全部依赖进口，也是随时面临卡脖子的状态，丝毫不敢乱动。

在华为受到芯片禁令后，中国就掀起了一场芯片领域的自救潮，然而当国内专家，学者，企业成为一个浩浩荡荡的大军涌入芯片领域后，却发现中国半导体领域严重落后，光刻机成了国人面前的一道不可跨越的鸿沟。其实不只是中国，世界上的绝大多数国家的都没有掌握光刻机技术，台积电，三星等全球芯片代工巨头使用的光刻机也是从荷兰进口。

光刻机是一项非常精密的设备，光是元部件就有1万多个，一个国家根本没办法生产，ASML的光刻机配件就是从全球一百多个国家采购的，并且用到了美国的许多技术，所以也是遭到了美国的技术限制以及政治施压。中芯国际从ASML采购的光刻机，由于美国的干涉，两年了迟迟没有交付。

所以对我们国家来说，芯片制造的困难可想而知，首先就得突破光刻机，而要想突破光刻机首先就得突破每一个核心技术。前不久光刻机的核心技术高能光源取得了突破，但这只是万里长征的第一步，光刻机即便自制了，芯片制造工艺技术还得突破，目前中芯国际的7nm刚过了风险试产阶段。距离5mn以下也还有很长一段路要走。

科研领域往往是投入大回报小，如果有幸能突破那自然是很好，台积电的张忠谋就反对芯片自制，除了影响他的份额外，动辄投入上千亿，但结果却未知。并且世界上的每个国家每个企业都有优势有劣势，这也是合作的基础。从经济的角度看确实有其合理性，但是自由贸易的供应链已经被美国等扰乱，中国要想发展，唯有自救这一条路可走。

纵然前边刀山火海，中国也唯有赴汤蹈火。从中兴到华为，中国深知科技领域自主创新的重要性。虽然异常艰难，但是势在必行，中国要想科技领域取得发展，国产化是唯一可走的路。

没有光刻机，那就自己造！中国似乎又回到了抗日战争时期，半导体领域也事关科技行业的生死存亡。中国又回到了万众一心抵御侵略的时代。每一个科研人员，每一个半导体企业都斗志昂扬。国家牵头，企业搭线，人才奉献。一定要啃下光刻机这块硬骨头。

光刻机主要由工件台、投影物镜和光源三大核心部件组成。清华大学朱煜教授团队研发了双工件台，中科院的物理研究院突破了高能同步辐射光源，中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也已投入使用。光刻机三大件已经被中国陆续啃下，后续随着研究人员越来越多，必定逐一拿下。

作为国内顶尖的学府，清华大学在光刻机的研究上又取得了新的进展。清华大学工程物理系教授唐传祥研究组研究的中国首个新型粒子加速光源“稳态微聚束”（英文缩写SSMB）的实验已经成功。能够获得EUV波段的光源，有望解决光刻机研发中的卡脖子问题。

虽然光刻机的研究犹如万里长征，但是中国从来不缺迎难而上的科研人。一个接一个的突破，让欧洲的ASML也开始紧张了，表示欧洲不该追随美国，按照中国的发展速度，不出三年就将拥有自己的光刻机，到时ASML将毫无优势可言。连光刻机巨头都看好中国，我们怎么能没有信心呢？加油吧，胜利就在前方！

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